直流磁控溅射法制备含氦铝膜

• 作者: 施立群 王庆富 贾建平 赖新春
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 磁控溅射 氦 弹性前冲散射分析 X射线衍射 热释放谱
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 372-376
• 页数: 5页
• 分类号: O571.33
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2006.03.026

摘要

采用氦氩混合气氛下直流磁控溅射沉积方法制备含有氦原子的金属铝膜.经碳原子弹性前冲散射分析(C-ERDA),薄膜中氦原子浓度可达约7%,且分布均匀.实验研究了薄膜中的氦含量与溅射真空室气氛中氦的相对含量、基底偏压及沉积温度间的关系.薄膜的X射线衍射分析结果显示:膜中的氦含量变化并未引起明显的峰位移,只是随氦含量增加谱峰宽化.热释放实验证实,氦在薄膜中稳定存在,约500℃以上时方出现氦的释放.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王庆富		7	25	3.0	4.0
2	赖新春		26	85	6.0	7.0
3	施立群		2	14	2.0	2.0
4	贾建平		7	24	3.0	4.0