磁控溅射法制备ZrMoN复合膜的显微结构和摩擦性能

• 作者: 喻利花 许俊华 赵强
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: ZrMoN复合膜 显微结构 力学性能 摩擦性能
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 77-82
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射法在单晶硅(100)和304不锈钢基底上沉积不同Mo含量的Zr1-xMoxN(x=0.05，0.14，0.42，0.52)复合膜，采用X射线衍射仪、纳米压痕仪(CSM)、摩擦磨损试验机、扫描电镜和能谱仪研究复合膜的显微结构、力学性能及摩擦性能。结果表明：Zr1-xMoxN复合膜以fcc (Zr，Mo)N结构为主，随x增大，薄膜中会出现fcc Mo2N相。复合膜的硬度从28.1 GPa(ZrN)增加至29.6 GPa(x=0.05)，x继续增加，硬度逐渐降低。室温下，薄膜的摩擦因数由0.69(ZrN)降低至0.44(x=0.14)，x继续增加摩擦因数略有增加。当温度高于100℃时，Zr0.58Mo0.42N复合膜的摩擦因数随温度升高先升高后降低，在300℃时达到最大。并讨论了ZrMoN复合膜Magnéli相的作用和自适应机制。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	许俊华	江苏科技大学材料科学与工程学院	60	269	9.0	13.0
2	喻利花	江苏科技大学材料科学与工程学院	58	246	8.0	12.0
3	赵强	江苏科技大学材料科学与工程学院	10	25	3.0	4.0