多弧-磁控溅射法制备Ti-Si-N纳米复合涂层及涂层的结构和力学性能

• 作者: 付德君 刘传胜 杨兵 杨种田 田灿鑫
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 多弧离子镀 中频磁控溅射 Ti-Si-N 纳米复合涂层
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 543-548
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2010.06.001

摘要

用内外靶配置的多弧-磁控溅射技术在单晶硅和硬质合金上制备Ti-Si-N纳米复合涂层,研究衬底偏压和Si靶溅射电流对涂层结构和力学性能的影响,经过实验参数优化,在偏压为-150 V、Si靶电流为15 A的沉积条件下,得到Si的原子分数为6.3%的Ti-Si-N纳米复合涂层.X射线衍射、X射线光电子能谱和透射电镜分析表明,涂层中含有晶态TiN和非晶Si3N4,纳米尺寸的TiN颗粒镶嵌在非晶Si3N4基体结构中.纳米硬度计测试表明涂层的显微硬度为40 GPa,摩擦学实验表明其摩擦因数为0.89,可满足Ti-Si-N纳米复合涂层的工业化应用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵	武汉大学加速器实验室	36	341	8.0	17.0
2	刘传胜	武汉大学加速器实验室	18	203	8.0	14.0
3	付德君	武汉大学加速器实验室	28	94	6.0	8.0
4	田灿鑫	武汉大学动力与机械学院	7	37	4.0	6.0
5	杨种田	武汉大学动力与机械学院	5	12	2.0	3.0