离子源辅助中频磁控溅射法在活塞环表面沉积CrN涂层

• 作者: 付德君 刘传胜 林宝珠 王泽松 王玲玲 田灿鑫 闫少健
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 中频磁控溅射 CrN 离子源 显微硬度 摩擦因数
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 549-553
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2010.06.002

摘要

用热丝弧光放电离子源辅助的中频磁控溅射装置在单晶硅和渗氮钢质活塞环上沉积CrN涂层,并用X射线衍射、原子力显微镜和电子显微镜测量涂层的微结构,用显微硬度计和球盘式摩擦磨损仪测量涂层的硬度和摩擦性能.与常规的中频磁控溅射法相比,采用离子源辅助磁控溅射法制备CrN涂层的沉积速率提高30%以上,达到4.0μm/h.在靶基距为90 mm,氮气分压比为0.14的优化条件下,沉积在活塞环上的CrN涂层结构为CrN(2001取向,涂层厚度达到25 μm,硬度高达17.85 GPa,平均摩擦因数为0.48.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘传胜	武汉大学加速器实验室	18	203	8.0	14.0
2	王玲玲	武汉大学加速器实验室	15	104	6.0	10.0
3	付德君	武汉大学加速器实验室	28	94	6.0	8.0
4	田灿鑫	武汉大学加速器实验室	7	37	4.0	6.0
5	王泽松	武汉大学加速器实验室	6	19	3.0	4.0
6	闫少健	武汉大学加速器实验室	5	25	3.0	5.0
7	林宝珠	武汉大学加速器实验室	1	6	1.0	1.0