磁控溅射沉积U薄膜性能研究

• 作者: 任大鹏 吕学超 张永彬 鲜晓斌
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: U薄膜 组织 结构 密度
• 年，卷（期）: 2002,（4）
• 页码范围: 396-398
• 页数: 3页
• 分类号: O484.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-6931.2002.04.028

摘要

采用X射线光电子能谱仪(XPS)和扫描透射电镜(STEM)分析了在Al薄膜基材上磁控溅射沉积U薄膜的表面形貌、组织和结构;分别采用排代法、霍美尔(T20S)粗糙度测量仪测量了薄膜的密度和表面粗糙度.结果表明:溅射沉积的U薄膜由金属U和少量UO2组成,薄膜结构属微晶和无定形态,密度是块材密度的(75±5)%,表面粗糙度小于0.3 μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	任大鹏		23	100	6.0	9.0
2	鲜晓斌		47	280	10.0	12.0
3	吕学超		29	121	6.0	9.0
4	张永彬		10	65	5.0	8.0