直流磁控溅射钛及钛合金薄膜的性能研究

• 作者: 刘实 张文峰 戎利建 王隆保
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 钛 薄膜制备 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 933-937
• 页数: 5页
• 分类号: O484.1
• 语种: 中文

摘要

用直流磁控溅射的方法在Si及Mo基片上制取Ti及其Ti合金薄膜.研究了基片温度等镀膜工艺参数对薄膜性能的影响,并用XPS、XRD、SEM分析薄膜的化学组成和结构特征,对薄膜的生长模式进行分析.结果表明,合金的加入降低了晶粒尺寸;升高温度可增大薄膜晶粒尺寸,改善薄膜结合能力;合金膜的成分与靶材基本一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戎利建	中国科学院金属研究所	61	432	12.0	18.0
2	刘实	中国科学院金属研究所	38	295	10.0	15.0
3	王隆保	中国科学院金属研究所	28	282	10.0	15.0
4	张文峰	中国科学院金属研究所	3	42	2.0	3.0