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摘要:
提出了一种可显著改善室温下直流磁控溅射氧化铟锡(ITO)薄膜晶体结构、光学和电学性能的后处理方法,将ITO薄膜分别置于氩气、氨气和氧气中进行低温等离子体退火处理.同单纯的退火处理相比,在3种气氛下,低温等离子退火均可使室温溅射沉积的ITO薄膜在相对低的温度(150 ℃)时,由非晶态转变为晶态,其相应的电学和光学性能都有较大的提高.实验证明:氨气气氛下退火温度为350 ℃时,玻璃衬底上ITO薄膜在波长为600 nm的可见光区内的透光率可达88.5%;薄膜表面的针刺很少,表面平整度小于2.08 nm;方块电阻由348.7 Ω降到66.8 Ω,相应的电阻率由4.1×10-3 Ω·cm降到7.9×10-4 Ω·cm.该方法更能满足柔性有机聚合衬底的ITO薄膜对低温退火的要求.
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关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 直流磁控溅射氧化铟锡薄膜的低温等离子退火研究
来源期刊 西安交通大学学报 学科
关键词 氧化铟锡薄膜 磁控溅射 方块电阻
年,卷(期) 2007,(2) 所属期刊栏目 专题研究
研究方向 页码范围 236-240
页数 5页 分类号 O484
字数 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:0253-987X.2007.02.024
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱长纯 西安交通大学电子与信息工程学院 215 2372 22.0 41.0
2 商世广 西安交通大学电子与信息工程学院 6 10 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
氧化铟锡薄膜
磁控溅射
方块电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
西安交通大学学报
月刊
0253-987X
61-1069/T
大16开
1960-01-01
chi
出版文献量(篇)
7020
总下载数(次)
0
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
国家高技术研究发展计划(863计划)
英文译名:The National High Technology Research and Development Program of China
官方网址:http://www.863.org.cn
项目类型:重点项目
学科类型:信息技术
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