氧化铟锡纳米晶薄膜的制备 及其电致变色性能

• 作者: 贾岩 刘东青 程海峰 国防科技大学空天科学学院新型陶瓷纤维及其复合材料重点实验室
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 氧化铟锡 电致变色 纳米晶薄膜 智能窗
• 年，卷（期）: 2023,（8）
• 页码范围: 215-221
• 页数: 7页
• 语种: 中文

摘要

采用一锅法合成不同形貌、尺寸的氧化铟锡(ITO)纳米晶，并通过旋涂工艺制备ITO纳米晶薄膜，研究不同形貌、尺寸ITO纳米晶制备的薄膜的近红外光谱调控性能。结果表明：5次旋涂后，ITO纳米晶薄膜的可见光透过率为89.2%,电阻率为54Ω·cm。平均直径为(6.88±1.53) nm的均匀球形ITO纳米晶制备的薄膜表现出最优的近红外光谱调控能力，在施加±2.5 V电压后，其在2000 nm的光谱调制量为39.3%,光密度变化量为0.43。在电致变色前后，ITO纳米晶薄膜始终保持高可见光透过率。ITO纳米晶的电致变色是由于电子注入/脱出导致的局域表面等离子体共振(LSPR)频率和强度变化引起，其电致变色过程是通过电容充放电实现的。