离子液体电沉积制备Cu掺杂 NiO 电致变色薄膜及其性能

• 作者: 张宇 刘滢 张博 郭新涛 中国航空制造技术研究院材料应用研究部
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 电致变色 NiO 电沉积法 掺杂 离子液体
• 年，卷（期）: 2023,（7）
• 页码范围: 171-177
• 页数: 7页
• 语种: 中文

摘要

NiO是一种常见的电致变色材料，元素掺杂改性是改善NiO薄膜电致变色性能的重要方法。以离子液体为介质，采用电沉积法制备Cu掺杂NiO薄膜，并研究Cu元素掺杂对NiO薄膜电致变色性能的影响。结果表明：Cu掺杂NiO薄膜的电致变色性能相较于纯NiO薄膜有明显提升。Cu掺杂含量为6%(原子分数，下同)时，薄膜光调制范围最大，为54.7%,着色效率最高，为61.54 cm2/C,Cu掺杂含量为12%时，薄膜的着褪色响应时间最短，分别达到2.7 s与2.6 s。薄膜的物相结构为面心立方晶相Ni1-xCuxO,由纳米粒子堆积而成，表面存在大量利于离子扩散的孔隙。