电沉积NiHCF薄膜的离子选择性研究

• 作者: 张忠林 张玫 郝晓刚 郭金霞 马旭丽
• 来源期刊: 太原理工大学学报
• 关键词: 电化学控制离子交换 铁氰化镍薄膜 电化学阻抗图谱 离子选择性
• 年，卷（期）: 2006,（3）
• 所属期刊栏目: 化学工程与技术
• 页码范围: 334-337,341
• 页数: 5页
• 分类号: TQ035
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-9432.2006.03.023

摘要

采用电沉积方法在铂、铝基体上制备出具有电化学控制离子交换(ESIX)性能的电活性NiHCF(Nickel Hexacyanoferrate)薄膜,在1 mol/L(NaNO3+CsNO3)和1 mol/L(KNO3+CsNO3)混合溶液中分别测定了不同Cs+浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱,并根据CV曲线和EIS曲线的变化特征分析了薄膜对Cs+/K+和Cs+/Na+离子的选择性.结果表明,交流阻抗技术与循环伏安法相结合可较好地用来表征混合溶液中离子膜的选择性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郝晓刚	太原理工大学化学工程与技术学院	138	831	15.0	22.0
2	张忠林	太原理工大学化学工程与技术学院	84	493	12.0	17.0
3	郭金霞	太原理工大学化学工程与技术学院	3	50	3.0	3.0
4	张玫	太原理工大学化学工程与技术学院	4	28	3.0	4.0
5	马旭丽	太原理工大学化学工程与技术学院	1	8	1.0	1.0