Ni掺杂WOx薄膜的电致变色性能

• 作者: 徐爱娇 穆尉鹏 黄佳木
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: WOx:Ni薄膜 电致变色 掺杂 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 177-180
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|TN304.8
• 字数: 2756字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射工艺,以纯钨和纯镍为靶材在ITO玻璃上制备Ni掺杂WOx电致变色薄膜,研究了Ni掺杂对WOx薄膜电致变色性能和微观结构的影响机理.实验结果表明:均匀掺杂少量的Ni可改变WOx薄膜内部的缺陷分布及结构,提高薄膜的电致变色性能.XRD分析表明,掺杂后的WOx:Ni薄膜为非晶态;XPS分析表明:WOx:Ni薄膜中的Ni为Ni2+.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料科学与工程学院	84	690	13.0	20.0
2	徐爱娇	重庆大学材料科学与工程学院	3	14	3.0	3.0
3	穆尉鹏	重庆大学材料科学与工程学院	2	147	2.0	2.0