工艺参数对WOx薄膜电致变色特性和结构的影响

• 作者: 张新元 施萍萍 黄佳木
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化钨 非晶态薄膜 电致变色特性 磁控溅射 透光率
• 年，卷（期）: 2003,（10）
• 所属期刊栏目: 信息材料及应用
• 页码范围: 38-41
• 页数: 4页
• 分类号: TB34|O484
• 字数: 2733字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2003.10.013

摘要

采用直流反应磁控溅射工艺,以纯钨靶为靶材在铟锡氧化物玻璃上制备电致变色WOx薄膜,研究了氧含量、溅射功率及溅射环境温度等工艺条件对其电致变色特性和结构的影响.实验结果表明:磁控溅射得到的WOx薄膜主要是非晶态的,在一定范围内,较低的氧含量,较高的溅射功率,较高的溅射环境温度下制备的WOx薄膜有较好的电致变色特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄佳木	重庆大学材料学院	84	690	13.0	20.0
2	施萍萍	重庆大学材料学院	3	32	3.0	3.0
3	张新元	重庆大学材料学院	4	36	2.0	4.0