离子源辅助电弧离子镀制备MoSx自润滑涂层

• 作者: 付德君 刘怡飞 李助军 杨兵 田灿鑫 苏峰华
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 自润滑涂层 中空阴极弧光离子源 电弧离子镀 MoSx涂层 力学性能
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 186-191
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2018.02.010

摘要

以Ar为输送气体,H2S为S源,纯金属Mo为Mo源,采用中空阴极弧光离子源结合电弧离子镀系统,在单晶Si(100)和硬质合金衬底上制备MoSx自润滑涂层,系统研究H2S流量对MoSx自润滑涂层结构及性能的影响,为电弧离子镀技术制备MoSx自润滑涂层积累实验数据.结果表明,H2S流量对MoSx自润滑涂层的晶体结构、硬度及摩擦因数具有明显影响.随H2S流量升高,MoSx自润滑涂层中Mo晶粒尺寸逐渐减小,没有明显的硫化物结晶相,MoSx涂层硬度逐渐减小,摩擦因数也逐渐减小,且均小于0.35(对磨材料硬质合金).H2S可以作为S源通过中空阴极离子源离化作用为MoSx自润滑涂层的制备提供S元素;电弧离子镀制备出的MoSx自润滑涂层为金属Mo纳米晶粒与非晶MoS、MoS2组成的纳米复合结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨兵	武汉大学加速器实验室	36	341	8.0	17.0
2	李助军	广州铁路职业技术学院机械与电子学院	37	30	3.0	4.0
3	付德君	武汉大学加速器实验室	28	94	6.0	8.0
4	刘怡飞	广州铁路职业技术学院机械与电子学院	19	15	2.0	3.0
5	苏峰华	华南理工大学机械与汽车工程学院	16	37	4.0	5.0
6	田灿鑫	广州铁路职业技术学院机械与电子学院	6	5	1.0	2.0