Si含量对VAlSiN涂层微结构、力学性能和摩擦磨损性能的影响

• 作者: 岳建岭 李栋 李淼磊 王恩青 黄峰
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 磁控溅射 VAlSiN涂层 微结构 硬度 摩擦磨损性能
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 70-76
• 页数: 7页
• 分类号: TG174.444
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2015.001040

摘要

采用反应磁控溅射技术,在300℃下制备不同Si含量的VAlSiN涂层.研究Si含量的变化对VAlSiN涂层相结构、生长形貌、化学状态、力学性能和摩擦磨损性能的影响.结果表明:不含Si的VAlN涂层呈现(111)择优取向生长.随着Si含量的增加,VAlSiN涂层的(111)择优取向逐渐消失,最终转变为非晶结构.Si含量大于1.8 %(原子分数,下同)的VAlSiN涂层是由nc-VAlN和a-Si3N4组成的多相复合涂层.与VAlN涂层相比,添加少量Si(0.8%)的VAlSiN涂层晶粒尺寸减小,致密度得到提高,对应的涂层硬度也得到显著增大,达到30.1GPa.继续增加Si的含量,VAlSiN涂层的柱状生长结构被打断,硬度逐渐下降,最后稳定在22GPa左右.VAlSiN涂层的摩擦因数随着Si含量的增加先降低后升高.当Si含量为0.8%时涂层的磨损率最低,达1.2×10-16 m3·N-1·m-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李栋	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	44	372	12.0	17.0
2	黄峰	中国科学院宁波材料技术与工程研究所	36	194	7.0	12.0
3	岳建岭	中南大学航空航天学院	13	43	4.0	5.0
7	王恩青	中南大学航空航天学院	5	49	2.0	5.0
11	李淼磊	中南大学航空航天学院	8	18	3.0	3.0