磁控溅射法制备W1-xAlxN薄膜的微结构与性能

• 作者: 喻利花 赵洪舰
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 磁控溅射 WAlN复合膜 微结构 抗氧化 摩擦性能
• 年，卷（期）: 2015,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 288-295
• 页数: 8页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射仪制备一系列不同Al含量的W1?xAlxN薄膜，系统研究该复合膜的微结构、力学性能、高温抗氧化性能及摩擦磨损性能。结果表明，W1?xAlxN薄膜为面心立方结构，呈(200)择优生长。当Al含量(原子分数，下同)为32.4%时，复合膜中形成h-AlN相，且随Al含量增加，h-AlN含量增多。随Al含量增加，薄膜硬度先升高后降低，Al含量为32.4%时薄膜硬度最大，约为37 GPa。随Al含量增加，复合膜在室温下的摩擦因数和磨损率均先减小后增大，Al含量为32.4%时达到最小值，分别为0.3和0.9×10?8 mm3/(N·mm)。复合膜摩擦因数随温度升高先增大后减小，而磨损率随温度升高逐渐增大，800℃下 W0.676Al0.324N 薄膜的摩擦因数和磨损率分别为0.32和8.2×10?8 mm3/(N·mm)。与W2N薄膜相比，W1?xAlxN薄膜的高温抗氧化性能和摩擦磨损性能显著提高。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	喻利花	江苏科技大学材料科学与工程学院	58	246	8.0	12.0
2	赵洪舰	江苏科技大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0