基片温度对ZnO薄膜结构和发光性能的影响

• 作者: 何英 张培明 张栋 王长征
• 来源期刊: 南宁师范大学学报（自然科学版）
• 关键词: ZnO薄膜 磁控溅射 基片温度 结构 光致发光
• 年，卷（期）: 2009,（1）
• 页码范围: 58-62
• 页数: 5页
• 分类号: O472.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8743.2009.01.011

摘要

采用对靶直流反应磁控溅射方法,在不同温度的Si (100)基片上制备了一系列的ZnO薄膜.利用X射线衍射仪和荧光分光分度计对ZnO薄膜的结构和发光性能进行了研究.结果表明:所有的ZnO薄膜都具有六角纤锌矿结构,且都表现出了(002)织构.随基片温度增加,ZnO薄膜结晶质量提高,其颗粒尺寸单调增加,并且薄膜应力状态发生改变,由压应力转变为拉应力.同时光致发光谱实验结果表明:室温沉积的ZnO薄膜出现了365 nm和389 nm的紫外双峰,并且出现了弱的蓝光发射带.随着基片温度升高到350℃,365 nm附近的紫外峰红移到373 nm,并且强度增强,而389 nm处的紫外峰强度明显减弱.当基片温度增加到500℃时,373 nm的发光峰强度减弱并蓝移到366 nm处,蓝光带强度减弱并红移到430 nm～475 nm处,并且出现了396 nm的近紫峰.