Al掺杂对ZnO薄膜结构和光学性能的影响

• 作者: 何明灿 周响亮 周昕 彭峰 李雪勇 杨帆
• 来源期刊: 湖南工业大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Al掺杂ZnO 磁控溅射 晶体结构 光学性质
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 基础研究
• 页码范围: 88-93
• 页数: 6页
• 分类号: O484.1
• 字数: 5259字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9833.2014.03.018

摘要

研究了Al掺杂对采用直流磁控溅射方法制备的ZnO薄膜结构及光学性能的影响.X射线衍射结果揭示薄膜具有良好的C轴择优取向生长特性,同时,衬底温度对它们的透射谱和荧光谱有着明显影响,所有薄膜都有大于86％的可见光透过率和陡峭的本征吸收边,但ZAO薄膜的光学透过率略低.A1掺杂导致了更宽的光学带隙,光致发光光谱显示ZnO具有较强的近带本征吸收峰和深能级发射峰,但Al掺杂使得深能级发射峰降低.随着衬底温度的升高,近带边吸收峰蓝移,与光学带隙Eg变化趋势一致.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周昕	湖南工业大学理学院	19	29	3.0	4.0
2	李雪勇	湖南工业大学理学院	14	33	4.0	5.0
3	杨帆	湖南工业大学理学院	7	10	2.0	3.0
4	何明灿	湖南工业大学理学院	1	5	1.0	1.0
5	周响亮	湖南工业大学理学院	1	5	1.0	1.0
6	彭峰	湖南工业大学理学院	1	5	1.0	1.0