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摘要:
HL-1M装置采用C2B10H12蒸汽等离子体增强沉积技术对第一壁进行了原位硼化,在第一壁表面上形成一层半透明、非晶a-B/C:H膜。在单电极、1.2A/750V放电参数下,平均沉积速率为110nm/h,膜厚不均匀度为84%,B/C=0.6-2.0,B-C的结合能为97-99eV,与B/C值有关。膜层中有20-30%的硼是以B-C的形式存在,70-80%碳是以a-C:H形式存在,这是HL-1M装置
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 HL—1M装置硼化膜的研究
来源期刊 四川真空 学科 工学
关键词 硼化膜 托卡马克装置 聚变堆材料
年,卷(期) 1997,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 34-40
页数 7页 分类号 TL631.24
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王明旭 24 83 7.0 8.0
2 张年满 22 49 4.0 6.0
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1997(0)
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研究主题发展历程
节点文献
硼化膜
托卡马克装置
聚变堆材料
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
四川真空
半年刊
成都市第109信箱207分箱
出版文献量(篇)
395
总下载数(次)
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