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摘要:
对GeSi合金的等离子色散效应进行了理论分析与计算。
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文献信息
篇名 GeSi合金的等离子色散效应
来源期刊 半导体杂志 学科 工学
关键词 等离子色散效应 硅化锗 硅材料
年,卷(期) bdtzz_1998,(2) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 11-13
页数 3页 分类号 TN304.12
字数 语种
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 刘淑平 太原重型机械学院物理教研室 11 10 2.0 3.0
2 贾跃虎 太原重型机械学院物理教研室 5 1 1.0 1.0
传播情况
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引文网络
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1998(0)
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研究主题发展历程
节点文献
等离子色散效应
硅化锗
硅材料
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体杂志
季刊
1005-3077
12-1134/TN
16开
天津市河西区陈塘庄岩峰路
1976
chi
出版文献量(篇)
478
总下载数(次)
1
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