ULSI技术的发展趋势

• 作者: 张跃
• 来源期刊: 上海微电子技术和应用
• 学科: 工学
• 关键词: ULSI技术 DRAM器件 微细加工 清洁化技术
• 年，卷（期）: 1998,（3）
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: TN453.05

摘要

本文介绍了与ＵＬＳＩ技术相关的ＤＲＡＭ器件的微细化进展，对半导体制造工艺技术的发展也作了讨论，指出了，ＵＬＳＩ技术在今后的发展中，应注重半导体工艺的“清洁化技术”，并将改善半导体器件制造的成本费用与效益的比例减产 ＵＬＳＩ技术开发的依据。

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1	张跃		2	0	0.0	0.0