聚焦离子束技术最近进展

• 作者: Gamo.,K 海韵
• 来源期刊: 国外核聚变与等离子体应用
• 学科: 工学
• 关键词: 聚焦离子束 无掩模能力 离子束辅助沉积 蚀刻
• 年，卷（期）: 1998,（1）
• 页码范围: 76-80,F004
• 页数: 6页
• 分类号: TN405.982

摘要

本文评述了聚焦离子（ＦＩＢ）技术的最新进展。这些技术包括离子植入，离子束辅助蚀刻和沉积以及就地制造，由于ＦＩＢ的无掩模能力和高电流密度，发现ＦＩＢ作为一种显微外科手术工具的在超大规模集成（ＵＬＳＩ）器件或材料分析以及就地制造方面有重要应用，最近的聚焦离子束系统能产生直径小于１０ｎｍ的聚焦离子束，而且作为纳米制造工具的重要性也日益增加，使用ＦＩＢ主要在ＧａＡｓ／ＧａＡｌＡｓ异质结构中制造了各种小尺寸