WC-Co硬质合金表面MW-PCVD制备金刚石薄膜去钴预处理的研究

• 作者: 俞世吉 周永成 张志明 汪建华 邬钦崇
• 来源期刊: 高技术通讯
• 学科: 工学
• 关键词: WC-Co硬质合金 MW-PCVD金刚石薄膜 去钴预处理
• 年，卷（期）: 1998,（4）
• 所属期刊栏目: 研究通讯
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TQ32
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-0470.1998.04.008

摘要

研究了WC-Co硬质合金刀具表面微波等离子体化学气相沉积(MW-PCVD)制备金刚石薄膜时不同的去钴预处理方式的影响.扫描电子显微镜形貌观察和喇曼谱分析表明,利用氢-氧等离子体处理方式有显著的去钴效果,相应沉积获得的金刚石薄膜质量相对较高.与酸腐蚀处理相比,微波等离子体化学气相沉积装置中实现氢-氧等离子体处理方式具有独特的优越性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	邬钦崇	中国科学院等离子体物理研究所	18	105	7.0	9.0
2	汪建华		57	613	12.0	20.0
3	张志明	上海交通大学应用化学系	46	553	15.0	21.0
4	俞世吉	中国科学院等离子体物理研究所	15	87	6.0	9.0
5	周永成	中国科学院等离子体物理研究所	1	9	1.0	1.0