衰减相移掩模及其编码制作方法研究

• 作者: 侯德胜 冯伯儒 周崇喜 张锦
• 来源期刊: 光学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 衰减相移掩模 光学邻近效应校正 编码
• 年，卷（期）: 1999,（8）
• 所属期刊栏目: 光学技术
• 页码范围: 1110-1113
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-2239.1999.08.020

摘要

在霍普金斯(Hopkins)理论的基础上,对方孔的传统透射掩模、衰减相移掩模以及加入光学邻近效应校正的衰减相移掩模在硅片表面光强分布的计算表明,衰减相移掩模有提高光刻分辨率的显著功能.提出一种制作衰减相移掩模的编码方法,理论计算表明,该编码方法能够达到预定的衰减参数.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张锦	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	26	204	8.0	13.0
2	冯伯儒	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	30	293	9.0	16.0
3	周崇喜	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	28	264	10.0	15.0
4	侯德胜	中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室	12	150	4.0	12.0