Al2O3-SiC纳米复合陶瓷中的残余应力分析

• 作者: 王宏志 郭景坤 高濂
• 来源期刊: 中国科学(E辑)
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米复合陶瓷 残余应力 氧化铝 X射线
• 年，卷（期）: 1999,（3）
• 页码范围: 200-205
• 页数: 6页
• 分类号: O4|TB33
• 字数: 339字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1006-9275.1999.03.002

摘要

用X射线衍射的方法测定了Al2O3-SiC纳米复合陶瓷的残余应力.建立模型,计算了残余应力,并与实验测定结果相吻合.探讨了纳米复合陶瓷的增韧补强机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高濂	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	165	5315	44.0	64.0
2	王宏志	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	31	660	11.0	25.0
3	郭景坤	中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室	143	3907	35.0	54.0