X射线研究CeO2缓冲层

• 作者: 吕惠宾 周岳亮 潘少华 王荣平 陈正豪
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 物理学
• 年，卷（期）: 1999,（1）
• 页码范围: 30-34
• 分类号: O48
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.1999.01.006

摘要

我们在有和无离子束辅助两种情形下,在双轴织构Ni基底上制备了CeO2薄膜,结果表明,无离子束辅助沉积时,薄膜表现出(111)取向,在离子能量为240eV,束流为200μA/cm2,基片温度为360℃的条件下沉积的CeO2薄膜呈现出良好的立方织构.另外,我们分析了薄膜应力随温度和离子辅助条件的变化关系,结果表明,离子束轰击可以减小薄膜应力,在360℃附近薄膜应力几乎被完全弛豫.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕惠宾	中国科学院物理研究所光物理实验室中国科学院凝聚态物理中心	21	125	7.0	10.0
2	陈正豪	中国科学院物理研究所光物理实验室中国科学院凝聚态物理中心	22	163	9.0	12.0
3	周岳亮	中国科学院物理研究所光物理实验室中国科学院凝聚态物理中心	24	142	6.0	11.0
4	潘少华	中国科学院物理研究所光物理实验室中国科学院凝聚态物理中心	6	55	2.0	6.0
5	王荣平	中国科学院物理研究所光物理实验室中国科学院凝聚态物理中心	4	10	1.0	3.0