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高稳定性Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜DC-SQUID
高稳定性Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜DC-SQUID
作者:
何明
徐凤枝
方兰
杨乾声
王晶
赵士平
路荣涛
阎少林
陈赓华
韩冰
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
摘要:
与YBCO薄膜相比,Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜具有更高的Tc和更好的抗湿性能,所以Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜器件不仅在液氮温度下具有更好的稳定性,而且在室温下具有更长的存放寿命.我们用磁控溅射的方法分别在24°和36.8°的STO双晶衬底上外延出Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜并制备成晶界结DC-SQUID,比较了二者由于晶界夹角不同而产生的性能差异,并给出可工作在95K的DC-SQUID干涉曲线;对工作在77K的Tl2Ba2CaCu2Ox和YBCO薄膜双晶DC-SQUID,比较了二者在噪声特性及临界电流和结电阻随温度变化等特性,并对结果作了讨论.
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内容分析
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文献信息
篇名
高稳定性Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜DC-SQUID
来源期刊
低温物理学报
学科
物理学
关键词
年,卷(期)
1999,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
296-299
页数
4页
分类号
O4
字数
1733字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1000-3258.1999.04.013
五维指标
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献
(0)
共引文献
(0)
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1999(0)
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二级引证文献(0)
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
低温物理学报
主办单位:
中国科学技术大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1000-3258
CN:
34-1053/O4
开本:
大16开
出版地:
安徽省合肥市金寨路96号
邮发代号:
26-136
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
1833
总下载数(次)
3
总被引数(次)
4241
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