ArF准分子激光光刻的研究现状

• 作者: 宋登元
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 准分子激光 VLSI
• 年，卷（期）: 1999,（5）
• 所属期刊栏目: 综述、评述
• 页码范围: 288-291
• 页数: 4页
• 分类号: TN2
• 字数: 3503字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.1999.05.003

摘要

193nm ArF准分子激光光刻是21世纪提高超大规模集成电路(VLSI)集成度的一项关键技术,已成为高技术领域的研究热点.作者从193nm激光光刻的光学系统设计、光学材料、光源、光致抗蚀剂及器件应用等方面综述了深紫外激光光学光刻技术的近期发展及应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋登元	河北大学电子工程学院	14	194	6.0	13.0