近期光刻用ArF准分子激光技术发展

• 作者: 余吟山 周翊 方晓东 梁勖 游利兵 王宇
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 ArF准分子激光 光刻 双图形
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 522-527
• 分类号: TN248
• 字数: 2073字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/J.issn.1007-5461.2010.05.002

摘要

193nm ArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90 nm以下节点半导体量产.分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术:主振-功率再生放大(MOPRA)结构,主振-功率振荡(MOPO)结构,主动光谱带宽稳定技术,先进的气体管理技术.对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王宇	中国科学院光电研究院	211	1906	23.0	32.0
2	余吟山	中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽省光子器件与材料重点实验室	29	165	9.0	11.0
3	方晓东	中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽省光子器件与材料重点实验室	73	301	9.0	13.0
4	周翊	中国科学院光电研究院	19	49	4.0	6.0
5	游利兵	中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽省光子器件与材料重点实验室	26	135	8.0	10.0
6	梁勖	中国科学院安徽光学精密机械研究所安徽省光子器件与材料重点实验室	27	113	6.0	9.0