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等离子体
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 在反应性Ar/N2de磁控管等离子体中添加He,Ne,Kr对沉积TiN的影响
来源期刊 等离子体应用技术快报 学科 工学
关键词 磁控管溅沉积 等离子体 薄膜沉积 涂层
年,卷(期) dlztyyjskb_1999,(11) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 13-14
页数 2页 分类号 TN304.055
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磁控管溅沉积
等离子体
薄膜沉积
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等离子体应用技术快报
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