YDM-1牙科电子麻醉仪诱发VC内FOS表达

• 来源期刊: 牙体牙髓牙周病学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 三叉神经脊束核尾侧亚核(VC) FOS 跨皮电刺激神经
• 年，卷（期）: 1999,（4）
• 页码范围: 286-288
• 页数: 3页
• 分类号: R782.054
• 语种: 中文

摘要

目的:探讨面部TENS后,三叉神经脊束核尾侧亚核(VC) 内兴奋细胞的分布.方法:利用免疫组织染色化学方法观察正常以及面部TENS后1 、2、4H 大鼠VC 内FOS 免疫阳性神经元的分布.结果:TENS后1H,FOS 免疫阳性神经元集中分布在VC 浅层背侧区,TENS后2H ,内层也出现少量FOS 免疫阳性神经元,TENS后4H ,VC 各层内可见FOS 免疫阳性神经元的分布.结论:VC 浅层和内层的神经元均参与TENS反应,早期主要是VC 浅层背侧区神经元.