喷涂距离和喷涂功率对羟基磷灰石涂层的影响

• 作者: 丁传贤 张叶方 郑学斌 黄民辉 黄静琪
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 化学
• 关键词: 羟基磷灰石涂层 等离子喷涂 喷涂距离 喷涂功率 Ca/P摩尔比
• 年，卷（期）: 1999,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 783-788
• 分类号: O646
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.1999.05.013

摘要

本文以Ti-6Al-4V合金为基体材料,采用等离子喷涂方法,在不同喷涂距离和喷涂功率下制备羟基磷灰石(HA)涂层,研究喷涂距离和喷涂功率这两个重要的喷涂参数对涂层结构和组成的影响. 使用扫描电子显微镜(SEM)观察了羟基磷灰石涂层的形貌. 涂层的相组成由X射线衍射谱仪(XRD)分析而得. 并使用X射线荧光谱仪(XRF)测定了涂层的Ca/P摩尔比. 研究结果表明,喷涂距离对羟基磷灰石涂层的形貌、相组成以及Ca/P摩尔比有着明显的影响. 随着喷涂距离的增大,羟基磷灰石粉末的熔化状态得到改善,涂层的显微结构较为致密. 然而,喷涂距离的增大使得涂层的非晶化更加严重,涂层中非晶相含量增大. 在实验范围内,喷涂功率对涂层结构和相组成的影响不明显. Ca/P比测定显示,等离子喷涂羟基磷灰石涂层均为缺磷涂层, Ca/P比随喷涂距离的增大而降低,随喷涂功率的增大而增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑学斌	中国科学院上海硅酸盐研究所	52	489	12.0	20.0
2	丁传贤	中国科学院上海硅酸盐研究所	55	1092	19.0	32.0
3	张叶方	中国科学院上海硅酸盐研究所	6	102	5.0	6.0
4	黄民辉	中国科学院上海硅酸盐研究所	2	45	2.0	2.0
5	黄静琪	中国科学院上海硅酸盐研究所	11	146	7.0	11.0