具有优良绝缘性能的TA_2O_5介质膜

• 来源期刊: 东南大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 绝缘特性 TA_2O_5介质膜 溅射/阳极氧化二步法 漏电流 击穿场强
• 年，卷（期）: 1999,（6）
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TB383
• 语种: 中文

摘要

介绍了一种具有优良绝缘性能的TA2O5 介质膜,它由溅射/ 阳极氧化二步法工艺制备而成.用原子力显微镜(AFM) 对TA2O5 膜进行了表面形貌分析,对它的电特性进行了测试,并与溅射TA2O5 膜和阳极氧化TA2O5 膜进行了比较.结果表明:溅射/阳极氧化TA2O5 膜的漏电流比溅射TA2O5 膜和阳极氧化TA2O5 膜分别减少了3 ~4 和1~2 个数量级,击穿场强也远高于后2 种膜.