溶胶凝胶法制备二氧化硅膜及其无显影气相光刻

• 作者: 张斌( ) 段生权 洪啸吟 王培清 陈明
• 来源期刊: 清华大学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 溶胶凝胶法 二氧化硅 无显影气相光刻 光刻
• 年，卷（期）: 1999,（12）
• 所属期刊栏目: 化学与化学工程
• 页码范围: 19-22
• 分类号: O63
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-0054.1999.12.006

摘要

为使无显影气相光刻应用于非硅衬底材料的刻蚀,扩宽其应用范围,研究了无显影气相光刻在溶胶凝胶法制备的二氧化硅膜中的应用.通过对溶胶凝胶化学过程的分析,考察了凝胶二氧化硅薄膜制备过程中的几个重要工艺参数,制备了结构均匀的二氧化硅薄膜.并将无显影气相光刻的方法应用于这种二氧化硅膜的刻蚀,通过优化后的光刻工艺参数得到了反差明显的光刻图形.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈明	清华大学化学系	33	500	12.0	22.0
2	洪啸吟	清华大学化学系	46	693	12.0	26.0
3	段生权	清华大学化学系	4	6	2.0	2.0
4	张斌( )		1	3	1.0	1.0
5	王培清	浙江大学硅材料国家重点实验室	1	3	1.0	1.0