ECR plasma CVD法淀积980 nm大功率半导体激光器端面光学膜技术

• 作者: 李玉璋 茅冬生 谭满清 陈良惠
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: ECR plasma CVD法 半导体激光器 介质光学膜
• 年，卷（期）: 1999,（9）
• 所属期刊栏目: 实验技术与元件
• 页码范围: 811-814
• 分类号: TN2
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.1999.09.011

摘要

介绍了电子回旋共振等离子体化学气相沉积(简称ECR plasma CVD)法淀积980 nm大功率半导体激光器两端面光学膜的工艺条件,探索了膜系监控的方法和优越性,讨论了这种淀积方法的优点和淀积的光学膜的优良特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谭满清	中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心	24	136	8.0	10.0
2	陈良惠	中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心	59	338	11.0	15.0
3	茅冬生	中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心	2	26	2.0	2.0
4	李玉璋	中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心	3	21	3.0	3.0