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一种极高靶功率密度的新型脉冲磁控管溅射技术
一种极高靶功率密度的新型脉冲磁控管溅射技术
作者:
蓉佳
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靶功率密度
脉冲磁控管溅射技术
等离子体
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一种极高靶功率密度的新型脉冲磁控管溅射技术
来源期刊
等离子体应用技术快报
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工学
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靶功率密度
脉冲磁控管溅射技术
等离子体
薄膜
年,卷(期)
2000,(5)
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12-13
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TL629.1
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等离子体应用技术快报
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核工业西南物理研究院
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