电沉积CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层组织结构的研究

• 作者: 杨显万 翟大成 郭忠诚
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 二氧化铈-镍-钨-磷-碳化硅 电沉积 复合镀 组织结构
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 页码范围: 5-8
• 页数: 4页
• 分类号: TQ15
• 字数: 1635字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-227X.2000.01.002

摘要

稀土元素因其独特的理化性能而被广泛应用于材料科学领域.为得到理想的复合材料,在Ni-W-P-SiC复合电镀液中加入稀土氧化物二氧化铈制得CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层.利用电子探针X射线能谱仪、扫描电子显微镜和X射线衍射仪分析了镀层成分、形貌及组织结构.镀层中含4%～7%碳化硅和5%～14%二氧化铈,在镀态下为非晶态,在200℃时开始晶化,至500℃时完全转变为晶态,热处理对镀层表面形貌无影响.表明CeO2-Ni-W-P-SiC复合镀层具有良好的稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭忠诚	昆明理工大学冶金系	310	3287	29.0	40.0
2	杨显万	昆明理工大学冶金系	103	1220	19.0	29.0
3	翟大成	昆明理工大学冶金系	20	238	10.0	15.0