用原位X射线衍射法对电化学插层过程的研究

• 作者: 尹志民 徐仲榆 苏玉长
• 来源期刊: 理化检验-物理分册
• 学科: 物理学
• 关键词: 原位X射线衍射 电化学插(脱)层 阶
• 年，卷（期）: 2000,（10）
• 所属期刊栏目: 测试技术与方法
• 页码范围: 445-447
• 页数: 3页
• 分类号: O4
• 字数: 1690字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4012.2000.10.004

摘要

采用原位X射线衍射技术研究了石墨在65%HNO3中的电化学插(脱)层过程,提出了一套处理XRD图谱的数据处理方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐仲榆	湖南大学新型炭材料研究所	63	904	17.0	26.0
2	尹志民	中南工业大学材料系	11	227	8.0	11.0
3	苏玉长	中南工业大学材料系	5	73	4.0	5.0