发光层的形态结构对电致发光器件性能影响的研究

• 作者: 张吉东 李德成 王利祥 王广 王言 秦大山 谢志元 闫东航
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 基底温度 形态结构 电流密度 量子效率
• 年，卷（期）: 2000,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 243-246
• 页数: 4页
• 分类号: TN873.3
• 字数: 2135字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-7032.2000.03.012

摘要

详细研究了沉积在Poly(9-vinylcarbazole)(PVK)薄膜上的8-羟基喹啉铝(Alq3)薄膜的形态结构对电致发光器件ITO/PVK/Alq3/Mg-Ag性能的影响.研究结果表明:发光层(Alq3层)的表面形貌极大地影响发光层和金属阴极的接触面积,从而影响器件的电流-电压特性.发光层的表面越均匀连续,发光层和金属阴极的接触面积就越大,通过器件的电流就越大.在三种条件的器件中,基底温度为438K时制备的Alq3薄膜所对应的器件的量子效率最高,298K制备的器件的效率次之,77K制备的器件的效率最差.