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纯Bi12SiO20晶体光激发截面的测量
纯Bi12SiO20晶体光激发截面的测量
作者:
梁其民
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光激发截面
Bi12SiO20晶休
瞬态光电流
摘要:
本文用瞬态光电流方法测量了纯Bi12SiO20(BSO)晶体的光激发截面.当脉冲宽度为7ns、光强为135KW/cm2、波长为532纳米的脉冲激光照射BSO晶体时,得到瞬态光电流的上升时间为55微秒,可计算出BSO晶体的光激发截面S=5.04×10-20cm2.利用光激发截面的数值可得出施主浓度ND=3.2×1019cm-3.
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文献信息
篇名
纯Bi12SiO20晶体光激发截面的测量
来源期刊
山东轻工业学院学报(自然科学版)
学科
物理学
关键词
光激发截面
Bi12SiO20晶休
瞬态光电流
年,卷(期)
2000,(1)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
48-51
页数
4页
分类号
O4-34
字数
2247字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1004-4280.2000.01.014
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
梁其民
山东轻工业学院物理教研室
3
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研究主题发展历程
节点文献
光激发截面
Bi12SiO20晶休
瞬态光电流
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
齐鲁工业大学学报
主办单位:
齐鲁工业大学
出版周期:
双月刊
ISSN:
1004-4280
CN:
37-1498/N
开本:
16开
出版地:
山东省济南市西部新城大学科技园
邮发代号:
创刊时间:
1987
语种:
chi
出版文献量(篇)
1977
总下载数(次)
6
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