TFT阵列金属电极的制备与性能

• 作者: 刘传珍 吴渊 杨柏梁 王大海
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TFT器件 溅射速率 金属薄膜
• 年，卷（期）: 2000,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 260-267
• 页数: 8页
• 分类号: TN321.5
• 字数: 2616字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-2780.2000.04.004

摘要

利用磁控溅射的方法制备了Cr、 Ta、 Al、 Mo、 MoW等金属薄膜，采用XRD、 SEM、四探针法等分析手段分析了薄膜的性能。讨论了衬底温度、反应气压、溅射功率、气体流量等因素对薄膜质量的影响，得到了制作TFT器件中优质金属电极的工艺参数。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨柏梁		12	90	7.0	9.0
3	吴渊		3	14	2.0	3.0
7	刘传珍		2	10	2.0	2.0
8	王大海		1	7	1.0	1.0