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Si(CH3)4的MPD与Si原子的双光子共振三光子电离
Si(CH3)4的MPD与Si原子的双光子共振三光子电离
作者:
刘新建
刘玉芳
施德恒
许启富
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
MPI光谱
四甲基硅
多光子解离
双光子共振三光子电离
硅原子
摘要:
在410~404nm的紫激光作用下,利用平行板电极装置研究了Si(CH3)4的多光子解离(MPD)及Si原子的双光子共振三光子电离.观察到了Si(CH3)4分子经MPD产生的、处于33PJ″(J″=0,1,2)态的硅原子,依据43PJ′←33PJ″(J′、J″=0,1,2)跃迁谱线的强度,得到了Si(CH3)4经MPD产生的、处于33PJ″(J″=0,1,2)态的硅原子的密度分布值,并进行了理论计算,依据双光子跃迁的选择定则及其附加定则,对410~404nm内的跃迁谱峰作了归属.根据这些结果,讨论了Si(CH3)4的MPI机理,得到了在这一波段内,于本文的实验条件下,Si(CH3)4的MPI机理主要为B类光化学行为的结论.
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文献信息
篇名
Si(CH3)4的MPD与Si原子的双光子共振三光子电离
来源期刊
激光杂志
学科
物理学
关键词
MPI光谱
四甲基硅
多光子解离
双光子共振三光子电离
硅原子
年,卷(期)
2000,(5)
所属期刊栏目
激光物理
研究方向
页码范围
16-18
页数
3页
分类号
O4
字数
2625字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.0253-2743.2000.05.007
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
施德恒
空军第一航空学院基础部
74
593
15.0
21.0
2
刘玉芳
河南师范大学物理系
156
576
11.0
17.0
3
刘新建
信阳教育学院物理系
4
72
2.0
4.0
4
许启富
信阳教育学院物理系
1
1
1.0
1.0
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引文网络
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1972(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1978(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1982(2)
参考文献(1)
二级参考文献(1)
1983(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1987(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
1990(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1991(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1994(6)
参考文献(3)
二级参考文献(3)
2000(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2000(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2001(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2007(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2008(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
MPI光谱
四甲基硅
多光子解离
双光子共振三光子电离
硅原子
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光杂志
主办单位:
重庆市光学机械研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
0253-2743
CN:
50-1085/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市黄山大道杨柳路2号A塔楼1405室
邮发代号:
78-9
创刊时间:
1975
语种:
chi
出版文献量(篇)
8154
总下载数(次)
22
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