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摘要:
在410~404nm的紫激光作用下,利用平行板电极装置研究了Si(CH3)4的多光子解离(MPD)及Si原子的双光子共振三光子电离.观察到了Si(CH3)4分子经MPD产生的、处于33PJ″(J″=0,1,2)态的硅原子,依据43PJ′←33PJ″(J′、J″=0,1,2)跃迁谱线的强度,得到了Si(CH3)4经MPD产生的、处于33PJ″(J″=0,1,2)态的硅原子的密度分布值,并进行了理论计算,依据双光子跃迁的选择定则及其附加定则,对410~404nm内的跃迁谱峰作了归属.根据这些结果,讨论了Si(CH3)4的MPI机理,得到了在这一波段内,于本文的实验条件下,Si(CH3)4的MPI机理主要为B类光化学行为的结论.
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文献信息
篇名 Si(CH3)4的MPD与Si原子的双光子共振三光子电离
来源期刊 激光杂志 学科 物理学
关键词 MPI光谱 四甲基硅 多光子解离 双光子共振三光子电离 硅原子
年,卷(期) 2000,(5) 所属期刊栏目 激光物理
研究方向 页码范围 16-18
页数 3页 分类号 O4
字数 2625字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.0253-2743.2000.05.007
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 施德恒 空军第一航空学院基础部 74 593 15.0 21.0
2 刘玉芳 河南师范大学物理系 156 576 11.0 17.0
3 刘新建 信阳教育学院物理系 4 72 2.0 4.0
4 许启富 信阳教育学院物理系 1 1 1.0 1.0
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2008(1)
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研究主题发展历程
节点文献
MPI光谱
四甲基硅
多光子解离
双光子共振三光子电离
硅原子
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光杂志
月刊
0253-2743
50-1085/TN
大16开
重庆市黄山大道杨柳路2号A塔楼1405室
78-9
1975
chi
出版文献量(篇)
8154
总下载数(次)
22
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