三方晶系的非线性磁光克尔谱及其表面磁化强度取向的效应

• 作者: 曾民勇 赖发春 赖恒 陈志高 黄志高
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 非线性磁光克尔谱 三方结构 磁化强度
• 年，卷（期）: 2000,（10）
• 所属期刊栏目: 非线性光学
• 页码范围: 942-947
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3156字
• 语种: 中文

摘要

本文计算了三方结构不同表面和不同磁化强度取向下的χ(2)、SHG、MSHG及非线性克尔旋转角Φ(2)k,a.结果表明,SHG和Φ(2)k,a值非常灵敏地依赖于薄膜的表面及磁化强度的取向;三方结构的SHG、Φ(2)k,a与fcc、bcc和hcp结构的相比有很大的差异,这表明结构对非线性磁光效应有重要的影响;当M∥X、Y轴时,MSHG信号很明显,这表明可通过A值的测量来研究磁性薄膜表面的磁畴结构以及取向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赖恒	福建师范大学物理系	41	178	7.0	12.0
2	陈志高	福建师范大学物理系	23	81	5.0	8.0
3	黄志高	福建师范大学物理系	108	292	9.0	13.0
4	赖发春	福建师范大学物理系	37	216	8.0	13.0
5	曾民勇	福建师范大学物理系	7	22	3.0	4.0