复配钨系缓蚀剂对铜电极缓蚀作用的交流阻抗研究

• 作者: 周国定 徐群杰 王艳华 陆柱
• 来源期刊: 中国学术期刊文摘
• 关键词: 缓蚀剂 Na2WO4 BTA 复配 交流阻抗 铜电极
• 年，卷（期）: 2000,（6）
• 页码范围: 754-756
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

采用交流阻抗法对单一缓蚀剂Na2WO4、BTA及其复合配方在3%NaCl溶液中对铜电极的缓蚀作用进行了比较研究,发现单一配方的缓蚀效果均随缓蚀剂浓度增加而增大,浓度为10-4 mol/L时缓蚀性能最好,并随时间增加而降低.铜电极浸入溶液4 h后的缓蚀效果比浸入1 h的差;一定配比的Na2WO4与BTA复配(1:1、1:2、1:3、2:1、3:1)对浸入溶液4 h后的铜电极的缓蚀效果具有明显的协同效应,尤其当[Na2WO4]:[BTA]=1:2,且缓蚀剂总浓度为10-4 mol/L时对铜电极的缓蚀效果最佳.