牙周基础治疗后根面过敏区显微特征的观察

• 作者: 孙卫斌
• 来源期刊: 口腔医学纵横
• 学科: 医学
• 关键词: 牙本质敏感 复型 扫描电镜
• 年，卷（期）: 2000,（1）
• 所属期刊栏目: 基础研究论著
• 页码范围: 16-18
• 页数: 3页
• 分类号: R781.2
• 字数: 1896字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-7651.2000.01.005

摘要

目的:探讨采用无创伤性技术观察根面过敏区显微形态.方法 :应用ColteneR硅橡胶印模材在离体和牙周基础治疗后牙本质过敏牙面制取印模及环氧树脂精确复型.结果:通过扫描电镜观察表明,本精确复型的表面显微形态与原牙面具有较好的一致性,体内复型显示过敏区牙本质小管开放,而非过敏区牙面有玷污层堵塞牙本质小管开口.结论:精确印模可以准确反映牙面显微形态.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙卫斌	南京医科大学口腔医学院	54	329	9.0	15.0