圆柱形平面式磁控溅射靶的特点与设计原理

• 作者: 孙东明
• 来源期刊: 昆明理工大学学报（理工版）
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 靶 真空镀膜
• 年，卷（期）: 2000,（2）
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 分类号: TB79
• 字数: 1474字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-855X.2000.02.015

摘要

介绍了一种根据矩形平面靶的结构原理设计圆柱形、平面式磁控溅射靶的方法.并对如何发挥圆柱形、平面式磁控溅射靶的优点进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙东明	昆明理工大学机电工程学院	77	303	10.0	14.0