四电极电化学腐蚀在微压传感器制造中的应用

• 作者: 乔文华 张治国 张纯棣
• 来源期刊: 仪表技术与传感器
• 关键词: 四电极 电化学腐蚀 微压传感器 梁膜结构
• 年，卷（期）: 2000,（8）
• 所属期刊栏目: 工艺与设备
• 页码范围: 11-12
• 页数: 2页
• 字数: 784字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1841.2000.08.005

摘要

在研究四电极电化学腐蚀工艺过程中,考虑了与扩散硅压力传感器芯片平面工艺的兼容性,使得该工艺用于微压传感器的制造.微压传感器采用梁膜结构设计,膜区厚度为10μm,制造出的微压传感器灵敏度为50mV/3kPa/1mA,端点法非线性为0.5%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	乔文华		1	3	1.0	1.0
2	张纯棣		1	3	1.0	1.0
3	张治国		1	3	1.0	1.0