铀表面磁控溅射镍镀层的电化学腐蚀行为研究

• 作者: 李科学 王小红 王庆富 管卫军 陈林
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 贫铀 磁控溅射 镍镀层 电化学腐蚀
• 年，卷（期）: 2014,（11）
• 所属期刊栏目: 化学
• 页码范围: 1938-1942
• 页数: 5页
• 分类号: TL214.6
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2014.48.11.1938

摘要

采用磁控溅射离子镀膜技术在贫铀表面制备金属镍镀层，利用电化学测试技术研究了镍镀层在Cl－溶液中的电化学腐蚀行为。结果表明：在含50μg／g Cl－的KCl溶液中，镍镀层的腐蚀电位－100.8 mV高于贫铀的腐蚀电位－641.2 m V ，相对于贫铀是阴极性镀层，对贫铀的保护基于对腐蚀介质的物理屏障；镀镍贫铀样品的极化电阻和电化学阻抗幅值远大于贫铀，其腐蚀电流远小于贫铀；约70 h的连续腐蚀实验中镍镀层未出现镀层破裂、剥落现象，且腐蚀电位、电流保持稳定。说明镍镀层对贫铀基体具有良好的防腐蚀性能。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈林		55	229	8.0	13.0
2	王庆富		27	143	8.0	10.0
3	李科学		4	14	2.0	3.0
4	管卫军		6	12	2.0	3.0
5	王小红		2	1	1.0	1.0