活性填料钼在聚碳硅烷转化陶瓷中的应用

• 作者: 李永清 肖加余 胡海峰 谢征芳 郑文伟 陈朝辉
• 来源期刊: 高技术通讯
• 学科: 工学
• 关键词: 活性填料 钼 聚碳硅烷 陶瓷
• 年，卷（期）: 2000,（12）
• 所属期刊栏目: 研究通讯
• 页码范围: 67-70
• 页数: 4页
• 分类号: TQ17
• 字数: 2854字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-0470.2000.12.020

摘要

研究了活性填料钼(Mo)在聚碳硅烷(PCS)先驱体转化陶瓷中的应用.研究表明,活性填料Mo能有效降低陶瓷素坯的气孔率.Mo可与PCS气态裂解碳氢产物、游离碳和N2气氛反应生成新的化合物,可明显提高PCS的陶瓷产率.当Mo/PCS为25%(vol)时, 坯体的陶瓷产率为100%.Mo还能有效地提高烧成体的强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢征芳	国防科技大学航天与材料工程学院	40	404	12.0	18.0
2	郑文伟	国防科技大学航天与材料工程学院	84	1014	18.0	27.0
3	陈朝辉	国防科技大学航天与材料工程学院	167	1816	23.0	32.0
4	肖加余	国防科技大学航天与材料工程学院	170	1846	21.0	32.0
5	李永清	国防科技大学航天与材料工程学院	18	345	10.0	18.0
6	胡海峰	国防科技大学航天与材料工程学院	65	720	15.0	24.0