硅钼杂多酸-聚吡咯膜修饰电极的制备及其电化学性能的研究

• 作者: 吴晓刚 姚磊明 詹彤 陆光汉
• 来源期刊: 华中师范大学学报(自然科学版)
• 学科: 化学
• 关键词: 杂多酸 化学修饰电极 电化学
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 页码范围: 427-429，433
• 页数: 4页
• 分类号: O657.13
• 字数: 2692字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-1190.2001.04.014

摘要

用电化学方法将硅钼杂多酸催化剂固定在导电聚吡咯薄膜电极上,制得了具有表面功能的硅钼杂多酸掺杂的聚吡咯薄膜修饰电极.实验发现在0.5 mol/LH2SO4或0.5 mol/LKCl介质中制得的硅钼杂多酸的聚吡咯薄膜修饰电极具有较好的稳定性和催化性能,用扫描电镜(SEM)、SEM-能谱仪(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)等手段对修饰电极进行了表征.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陆光汉	华中师范大学化学系	63	535	13.0	18.0
2	吴晓刚	华中师范大学化学系	3	58	3.0	3.0
3	詹彤	华中师范大学化学系	7	23	3.0	4.0
4	姚磊明	华中师范大学化学系	1	5	1.0	1.0