NiTi形状记忆薄膜的溅射制备及晶化热处理工艺

• 作者: 宫峰飞 沈惠敏 王业宁
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: NiTi形状记忆薄膜 溅射制备 晶化热处理
• 年，卷（期）: 2001,（4）
• 所属期刊栏目: 新材料
• 页码范围: 40-42
• 页数: 3页
• 分类号: TG139+.6
• 字数: 1977字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-6264.2001.04.010

摘要

用磁控溅射法制备了MiTi非晶薄膜.薄膜无形状记忆效应.研究了经不同晶化热处理后的形状记忆效应,获得的最佳晶化热处理条件为500～700℃范围内晶化0.5h.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宫峰飞	华东师范大学物理系	11	173	5.0	11.0
5	王业宁	南京大学固体微结构国家重点实验室	19	58	5.0	7.0
6	沈惠敏	南京大学固体微结构国家重点实验室	7	12	2.0	3.0